热点快评：重大突破！我国拿到光刻机“入场券”

2020-11-14 11:17:55来源：智能制造网编辑：林中易木关键词：芯片光刻机阅读量：79840

导读：11月14日，据央视财经报道，我国依托张江地区的创新努力，已经实现了芯片光刻机从无到有的突破拿到“入场券”，这将为我国芯片自强和崛起带来极大助力！

　　今年以来，美国连续发布的几项禁令，让我国芯片产业发展举步维艰。禁令对于芯片技术和供应链的切断，让国内基本丧失了在芯片领域发展的能力。但这样的局面并不会一直持续下去，11月14日，据央视财经报道，我国依托张江地区的创新努力，已经实现了芯片光刻机从无到有的突破拿到“入场券”，这将为我国芯片自强和崛起带来极大助力！

　　众所周知，光刻机是芯片制造中核心的机器，被誉为半导体产业“皇冠上的明珠”。每颗芯片在诞生之初，都需要经过光刻机的雕刻，且精度要达到头发丝的千分之一。对于一个国家的芯片发展来说，光刻机必不可少。但光刻机的研发和制造却难度极大，由于系统工程非常复杂，涉及数十万零部件和技术，一直以来掌握光刻机制造技术国家不多。

　　截至目前，光刻机市场主要玩家仍只有荷兰、美国和日本，发展基本被其所垄断。其他国家与企业要想制造和生产芯片，都必须从ASML、尼康、佳能等企业购买光刻机。一台光刻机的价格不仅昂贵，而且获取还十分不易，因此发展经常需要看他人的脸色。但如今，我国也拥有了光刻机的“入场券”，这意味着未来在芯片发展上再也不用受制于人。

　　对于我国来说，拥有了光刻机“入场券”，代表了我国芯片产业的自力更生和自强发展重新燃起了希望。此前华为创始人任正非在谈到制裁时曾表示，华为面临的大困难是国内芯片基础制造跟不上，其所谈论的问题就包括光刻机。而眼下，国产光刻机获得如此突破，无疑解决了困扰华为长期以来的心病。但欣喜之余，我们也还需要保持客观和理性。

　　就现实情况来说，我国才刚刚入门光刻机领域，不管在产品质量和技术方面，仍然与“御三家”存在明显差距。目前，ASML的光刻机已经达到7nm级别，而我国还在寻求28nm的突破，发展落后不止一点点。基于此，国产发展取得突破固然可喜，但也不能过分骄傲和乐观。未来国产芯片是否能取得理想中的发展，还需要我们继续在光刻机方面加大努力。

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