三星与科研团队共同发现一种半导体新材料非晶氮化硼（a-BN）

2020-07-07 09:04:27来源：cnBeta 关键词：半导体材料集成电路阅读量：26283

导读：三星表示，a-BN有望广泛应用于DRAM和NAND解决方案，因为它能够大限度地减少电干扰，并且可以在400℃的相对低温下完成晶圆的规模生长。

　　三星宣布与合作伙伴一同发现了一种名为非晶氮化硼(a-BN)的新材料。其在三星先进技术研究院(SAIT)的研究人员与蔚山国立科学技术研究院(UNIST)以及剑桥大学合作进行了这一发现。合作者在《自然》杂志上发表了他们的研究成果，并认为这种材料将 "加速下一代半导体的出现"。

　　三星在解释新发现的非晶氮化硼时表示，它由硼和氮原子组成，具有非晶分子结构，新材料来源于白色石墨烯，但不同的分子结构使得a-BN与白色石墨烯“有独特的区别”。

　　三星表示，a-BN有望广泛应用于DRAM和NAND解决方案，因为它能够大限度地减少电干扰，并且可以在400℃的相对低温下完成晶圆的规模生长。

　　石墨烯项目负责人、SAIT首席研究员Hyeon-Jin Shin在评论这种材料时说。

　　“为了提高石墨烯与硅基半导体工艺的兼容性，应在低于400℃的温度下实现半导体基板上的晶圆级石墨烯生长。我们也在不断努力，将石墨烯的应用扩展到半导体之外。”

　　该公司没有给出希望何时开始在其硬件产品中使用这种新材料的日期，但表示可以将其应用于半导体，特别是大规模服务器的下一代存储器解决方案中的DRAM和NAND方案。

　　原标题：三星与科研团队共同发现一种半导体新材料非晶氮化硼(a-BN)

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